Dari LPP hingga FEL: Analisis Perbandingan dalam Manufaktur Bervolume Tinggi
Penskalaan semikonduktor selalu mengandalkan teknik penyempurnaan litografi, dengan setiap generasi menuntut keluaran yang lebih tinggi dan presisi yang lebih besar. Litografi Extreme Ultraviolet (EUV), yang telah lama dinantikan sebagai solusi untuk node tingkat lanjut, memasuki tahap produksi dengan bantuan sumber Laser-Producted Plasma (LPP). Meskipun alat-alat ini memungkinkan penerapannya, keterbatasannya semakin terlihat seiring dengan industri yang … Read more
